Neova avancerad ha

Ett cellulärt armeringssystem med specialiserade lågmolekylära hyaluronsyror och DNA-reparationsavtal direkt med fuktunderskott stabiliserar cellfunktionen och avvisar förvärvade fotodamage innan det kan bli permanent.

Viktiga ingredienser:

• LMW hydrolyserad hyaluronsyra binder till kollagen på ena sidan och kopplar till vattenmolekyler på den andra, vilket ger huden sin studs. När det finns skador reglerar det inflammationsnivåer för att minska cellstressen.
• Ceramider Skydda hudens barriär och motstå irriterande aggressorer.
• DNA -reparationsenzymer Fotolysomer, mitosomer, endosomer känner igen den vanligaste formen av oxidativ skada på DNA och eliminerar 90% av det på 2 timmar och har visat sig minska UV-inducerad DNA-skada med 45% efter en enda exponering.

Water (Aqua), Hamamelis Virginiana (Witch Hazel) Water, Propylene Glycol, Glycerin, Panthenol, Xylitylglucoside, Anhydroxylitol, Peg-12 Dimethicone, Polysorbate 20, Arabidopsis Thaliana Extract, Micrococcus Lysate, Plankton Extract, Hydrolyzed Hyaluronic Acid, Ginkgo Biloba Leaf Extract , Ammoniumakrylydimetyltaurat/VP -sampolymer, fenoxietanol, butylenglykol, alkohol, xylitol, etylhexylglycerin, lecitin, natriumlaktylat, karnosin, ceramid NP, ceramid ap, fytosfär Fruktekstrakt, ceramid EOP .

Applicera 2 droppar på ren fuktig hud. Använd A.M. och P.M. på egen hand eller blandas med fuktighetskräm för maximala resultat.